光刻是微流控芯片制造中的重要工藝之一。簡單來說，它是通過使用光掩膜和光刻膠在基板上復(fù)制流體圖案的過程?；鍖⑼扛补瓒趸瘜咏^緣層和光刻膠。光刻膠在被紫外光照射后可以容易地用顯影劑溶解，然后在腐蝕后，流體圖案將留在基板上。無塵室(Cleanroom)排除掉空間范圍內(nèi)空氣中的微塵粒子等污染物，獲得一個相當潔凈的環(huán)境，常用于高精度制造的產(chǎn)業(yè)，包括微流控技術(shù)、半導體制造、生物技術(shù)、精密機械、醫(yī)療等，其中以半導體業(yè)對室內(nèi)溫濕度、潔凈度要求最為嚴格、必須控制在某個需求范圍內(nèi)，才不會對制程產(chǎn)生影響。

光刻區(qū)為什么選黃光?

光刻膠的感光范圍通常位于200nm-500nm，這意味著在這個范圍內(nèi)的光線可以引發(fā)光刻膠的化學反應(yīng)。200-500nm的光線有紫外線，紫光，藍光，因此這三種光線在光刻區(qū)是一點也不能存在的。微流控無塵室之所以使用黃光，主要跟微影制程(photolithography)有關(guān)，它是微流控芯片制造中的關(guān)鍵步驟之一，利用光線穿透印有流體圖案的光罩及光阻，在硅或者其他材質(zhì)的芯片上投印出流體結(jié)構(gòu)圖。在這個過程中，會將有二氧化硅絕緣層的硅晶圓涂上光阻，并于上方套上光罩(特定位置中有洞)，透過紫外光照射，被光照過的光阻會變得容易溶解，將特定位置的光阻以顯影液溶解掉，再進行蝕刻，就只蝕刻到特定位置的二氧化硅，其他地方則被光阻保護。等蝕刻完畢，清除掉剩余的光阻，就完成微影制程。黃光比白光或其他顏色的光更柔和，因此它不太可能在設(shè)備或晶圓的表面產(chǎn)生刺眼的反射或眩光。使用黃光可以確保在光刻過程中，顏色敏感的化學品或其他材料的顏色不會受到其他光源的影響或失真。相對于其他光源，黃光對人眼更為友好，尤其是在長時間的操作下，減少眼睛的疲勞和刺激。

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