微流控的研究始于80年代初并用于噴墨打印機噴頭，DNA芯片，實驗室芯片技術(shù)，微推動及溫度脈沖技術(shù)。微流控芯片，又稱其為微流控芯片實驗室或芯片實驗室，它是微流控技術(shù)實現(xiàn)的主要平臺，可在類似一枚郵票或一張信用卡大小的芯片上完成生物或化學實驗室各種功能的技術(shù)。

微流控芯片的制作

1、加工技術(shù)起源于微電子工業(yè)微機電加工技術(shù)，即集成電路芯片制作的光刻和蝕刻技術(shù)，微管道寬度和深度為微米級，比集成電路芯片的大，但加工精度要求則相對較低。

2、基片材料應具有良好的電絕緣性、散熱性、光學性能可以修飾性，可產(chǎn)生電滲流，能固載生物大分子，對檢測信號干擾小或無干擾；與芯片實驗室的工作介質(zhì)之間要有良好的化學和生物相容性，不發(fā)生反應?；牧蠌墓杵l(fā)展到玻璃，石英，有機聚合物等。

3、微米尺寸結(jié)構(gòu)，要求在制備過程中必須對環(huán)境進行嚴格認真的控制，包括空氣濕度，空氣溫度，空氣及制備過程中所使用的各種介質(zhì)中的顆粒密度，要求在潔凈室內(nèi)完成。

微流控芯片的基本加工

1、光刻和蝕刻技術(shù)，用光膠。掩膜、和紫外光進行微制造，由薄膜沉積，光刻和蝕刻三個工序組成。

2、光刻前首先要在基片表面覆蓋一層薄膜。然后在薄膜表面用甩膠機均勻地覆蓋上一沉光膠，將掩膜上微流控芯片設計圖案通過曝光成像的原理轉(zhuǎn)移到光膠層的工藝過程稱為光刻。

      3、光刻的質(zhì)量則取決于光抗蝕劑（有正負之分）和光刻掩膜版的質(zhì)量。掩膜的基本功能是基片受到光束照射（如紫外線）時，在圖形區(qū)和非圖形區(qū)產(chǎn)生不同的光吸收和透過能力。

    微流控芯片是當前微全分析系統(tǒng)發(fā)展的熱點領域。其產(chǎn)生的應用目的是實現(xiàn)微全分析系統(tǒng)的終極目標——芯片實驗室，目前重點應用領域是生命科學領域。