• 微流控光刻技術(shù)的微粒子研究現(xiàn)狀及應(yīng)用進(jìn)展摘要近年來，微粒因其獨(dú)特的形狀、復(fù)雜的結(jié)構(gòu)以及將各種功能整合到單個(gè)實(shí)體中的能力而引起了廣泛的關(guān)注。它們已被證明在生物分析和診斷、組織工程、防偽、機(jī)械工...2023-11-02 11:23:23
• PDMS在生物研究中的應(yīng)用--生物研究領(lǐng)域PDMS光刻技術(shù)綜述PDMS在生物學(xué)研究中的應(yīng)用PDMS在生物學(xué)研究中，更確切地說，PDMS的生物相容性是當(dāng)今生物學(xué)研究許多領(lǐng)域中的一個(gè)重要參數(shù)，因?yàn)槲⒘黧w和微流控芯片是...2022-12-08 11:10:50
• 光刻技術(shù)種類及光刻膠的分類溶解就可以清除，從而增加了模板的使用壽命，降低了生產(chǎn)成本。 3 ?紫外光刻技術(shù)及相應(yīng)的光刻膠 紫外光刻技術(shù)作為復(fù)制微型圖形的一種圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)，是制備...2021-12-30 15:50:44
• 光刻技術(shù)圖形轉(zhuǎn)移工藝三：芯片刻蝕光刻和刻蝕是兩個(gè)不同的加工工藝，但因?yàn)檫@兩個(gè)工藝只有連續(xù)進(jìn)行，才能完成真正意義上的圖形轉(zhuǎn)移，而且在工藝線上，這兩個(gè)工藝經(jīng)常是放在同一工序，因此，有時(shí)也...2018-06-07 08:49:02
• 光刻技術(shù)圖形轉(zhuǎn)移工藝二：光刻材料及設(shè)備1.光刻膠正膠負(fù)膠光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。????光刻膠...2018-06-07 08:41:19
• 光刻技術(shù)圖形轉(zhuǎn)移工藝一：照相技術(shù)的啟發(fā)不管是氧化、淀積還是擴(kuò)散、離子注入，這些單項(xiàng)工藝本身對(duì)硅晶圓片各個(gè)不同的位置沒有任何選擇性，它們都是對(duì)整個(gè)硅晶圓片進(jìn)行處理，不涉及任何圖形。集成電路是...2018-06-01 11:17:53
• 軟光刻技術(shù)：SU-8涂層機(jī)等）、烘膠臺(tái)、SU-8系列光刻膠及顯影液產(chǎn)品和相關(guān)技術(shù)輸出服務(wù)。在軟光刻技術(shù)中，通常用SU-8模具復(fù)制PDMS微流體結(jié)構(gòu)芯片。為了制造這種SU-8...2018-03-16 09:26:49
• 光刻技術(shù)的基本原理上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過程。光刻技術(shù)的基本原理：?1、涂膠目前涂膠的主要方法有：甩膠、噴膠和氣相沉積 ，但...2016-10-10 10:13:26
• 光刻技術(shù)? ? ? 光刻技術(shù)是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑（又稱光刻膠）將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上的技術(shù)。其主要過程為：首先紫外光通過掩膜版照射到附有一層光刻膠薄膜...2016-04-05 11:54:05
• SU-8光刻膠模具用到模具，尤其是在PDMS芯片加工的過程中。PDMS芯片加工通常采用軟光刻技術(shù)來制作。為了執(zhí)行PDMS軟光刻技術(shù)的加工過程，通常需要用到模板，最常規(guī)...2025-07-04 21:54:39