• 紫外光源：曝光系統(tǒng)最核心 ?????? 常見光源分為: ?????? 紫外光（UV），g線：436nm;i線：365nm ?????? 深紫外光（DUV）...2015-01-30 16:11:16
• 微液滴中的單細(xì)胞封裝多能性人間充質(zhì)干細(xì)胞或牛軟骨細(xì)胞的微滴（圖5A）。通過下游通道中的外部紫外光源對(duì)微滴進(jìn)行光交聯(lián)，以制備細(xì)胞負(fù)載微凝膠并保持高細(xì)胞活性。通過流式細(xì)胞術(shù)...2025-03-18 08:55:32
• 光刻膠的保存和老化失效曝光前保存數(shù)周而不會(huì)降低曝光的質(zhì)量。但是需要注意保存條件，避免紫外（含紫外光源）的曝光，避免顆粒等污染物吸附在襯底上，部分特殊光刻膠需要注意空氣氣氛...2024-07-08 10:08:57
• 光刻膠的硬烘烤技術(shù)外殼”，在一定程度上保護(hù)了光刻膠結(jié)構(gòu)不受加熱的影響。如果沒有可用的深度紫外光源，標(biāo)準(zhǔn)掩模對(duì)準(zhǔn)式光刻機(jī)也可用g-線、h-線和i-線進(jìn)行輻照。當(dāng)然，這種...2024-07-01 11:48:28
• 微流控芯片制備加工方法墨技術(shù)可直接將墨滴噴射到電路板上，從而精確繪制電路圖。③紫外光刻技術(shù)：紫外光源因?yàn)槠渚哂休^短的波長(zhǎng)、高的光子能量、加工分辨率高等優(yōu)勢(shì)，在高精度加工領(lǐng)...2024-03-05 10:20:27
• 一文了解SU-8光刻膠得樹脂變得易于溶解?；瘜W(xué)放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍，對(duì)深紫外光源具有良好的光學(xué)敏感性，同時(shí)具有高對(duì)比度，對(duì)高分辨率等優(yōu)點(diǎn)。?（化學(xué)放大...2023-07-25 08:58:21
• 量子點(diǎn)材料的研究現(xiàn)狀及在光致發(fā)光和電致發(fā)光領(lǐng)域的應(yīng)用了81；Lin等在柔性襯底上混合不同顏色cdse／Zns的量子點(diǎn)并使用紫外光源作為激發(fā)光，最高達(dá)到了96的顯色指數(shù)。????此外，在量子點(diǎn)中引入有光...2019-10-31 14:17:55
• 中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制出實(shí)用深紫外光刻機(jī)所微電子專用設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊(duì)積極響應(yīng)客戶需求，大膽創(chuàng)新，成功解決了低成本深紫外光源、深紫外高均勻性勻光技術(shù)、新型深紫外介質(zhì)膜鍍膜技術(shù)以及非球面準(zhǔn)直技術(shù)等...2017-07-28 16:03:16
• PDMS芯片表面改性技術(shù)向表面擴(kuò)散，導(dǎo)致表面接枝層密度減小。另外，物理改性需要等離子體發(fā)生器、紫外光源等設(shè)備，有些還比較昂貴。特別要指出的是：通過等離子體和紫外光處理后，兩...2017-01-13 10:03:08
• 光刻機(jī)的簡(jiǎn)單介紹量的需要，恩科優(yōu)的NXQ8000系列可以一個(gè)小時(shí)處理幾百片wafer。紫外光源曝光系統(tǒng)最核心的部件之一是紫外光源。常見光源分為:紫外光（UV），g線...2016-04-18 11:54:16