什么是光刻機(jī)？高端光刻機(jī)是集成電路配備中技能難度最高的關(guān)鍵設(shè)備，因此也被稱為人類技能開(kāi)展的制高點(diǎn)和制作工業(yè)“皇冠上的明珠”。國(guó)外品牌主要以荷蘭ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌為主。我國(guó)是國(guó)際最大的芯片使用商場(chǎng)和進(jìn)口商場(chǎng)，而光刻機(jī)是我國(guó)完成芯片工業(yè)自主化最大的短板，國(guó)家02科技重大專項(xiàng)旨在打破國(guó)外獨(dú)占，打造具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高端光刻機(jī)設(shè)備，關(guān)于我國(guó)芯片工業(yè)開(kāi)展具有重大意義。

本次入駐的光刻機(jī)浸液體系項(xiàng)目擬在青山湖科技城核心區(qū)新增用地25畝，總投資5億元。項(xiàng)目整體規(guī)劃，一次建成，建造光刻機(jī)浸液體系產(chǎn)品研制與中試基地。與前期入駐的中電?？荡判鎯?chǔ)芯片項(xiàng)目毗連而建，在科技城構(gòu)成關(guān)鍵設(shè)備制造、芯片研制出產(chǎn)兩大集成電路工業(yè)項(xiàng)目龍頭。

浸液體系背景：浸液體系是浸沒(méi)式光刻機(jī)四大核心部件之一，是光刻機(jī)打破干式曝光物理極限向更小技能節(jié)點(diǎn)開(kāi)展的標(biāo)志性技能?，F(xiàn)在，國(guó)際上僅荷蘭ASML和日本Nikon擁有浸液體系技能，且嚴(yán)厲保密，因而，我國(guó)有必要自主研制。

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