• SU-8光刻膠模具會(huì)用到模具，尤其是在PDMS芯片加工的過程中。PDMS芯片加工通常采用軟光刻技術(shù)來制作。為了執(zhí)行PDMS軟光刻技術(shù)的加工過程，通常需要用到模板，最常...2025-07-04 16:07:44
• 光刻加工光刻技術(shù)圖形轉(zhuǎn)移工藝光刻工藝（Photoetching or Lithography）是一種圖像復(fù)印技術(shù)，利用光刻膠感光后特性發(fā)生改變的原理，將光刻掩...2025-07-04 16:07:44
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡介新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8?膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問題，...2024-03-28 10:07:48
• 為什么微流控光刻工藝要用黃光?光刻是微流控芯片制造中的重要工藝之一。簡單來說，它是通過使用光掩膜和光刻膠在基板上復(fù)制流體圖案的過程?；鍖⑼扛补瓒趸瘜咏^緣層和光刻膠。光刻膠在被紫...2025-06-16 09:43:59
• 光刻工藝中的顯影技術(shù)一、光刻工藝概述光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù)，通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化，再經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程，將設(shè)計(jì)在掩膜上的圖形...2025-06-09 09:41:00
• 光刻膠產(chǎn)業(yè)國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀如果說最終制造出來的芯片是一道美食，那么光刻膠就是最初的重要原材料之一，而且是那種看起來可能不起眼，但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。光刻膠（photoresist），在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光...2025-06-04 09:07:49
• 光刻掩膜版的儲(chǔ)存條件光刻掩膜版（Photomask）是光刻工藝中至關(guān)重要的工具，它直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。雖然直接關(guān)于光刻掩膜版的儲(chǔ)存條件的信息較少，但我們可以...2025-04-28 10:01:32
• 鉻板掩膜和光刻掩膜的區(qū)別掩膜版作為微納加工技術(shù)中光刻工藝所使用的圖形母版，在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。隨著信息技術(shù)和智能制造的快速發(fā)展，特別是智能手機(jī)、平板電腦...2025-02-19 09:29:54
• 正性光刻對(duì)掩膜版有哪些要求正性光刻對(duì)掩膜版的要求主要包括以下幾個(gè)方面：基板材料：掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩(wěn)定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料，因?yàn)樗哂休^低的...2025-02-17 09:46:14
• 晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究隨著半導(dǎo)體器件的應(yīng)用范圍越來越廣，晶圓制造技術(shù)也得到了快速發(fā)展。其中，光刻技術(shù)在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料，其質(zhì)量直接影響到晶圓生產(chǎn)的效率和質(zhì)量。本文將圍繞著晶圓表面光刻膠的涂覆與刮...2025-01-03 09:43:30